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ks-cm300/200 单片式化学清洗机

ks-cm300/200 单片式化学清洗机适用于沉积前清洗、蚀刻后清洗、离子注入后清洗、cmp后清洗等多种前段工艺(feol)和后段工艺(beol)清洗进程,可适配高温spm工艺,工艺覆盖率达80%以上;搭载独立开发的新一代高清洗效率低损伤射流喷嘴,洁净度达到先进制程所需水平。
产品优势:

可配置8腔体、12腔体和16腔体,单chamber占地面积更小
具有双面清洗能力,可配置多种化学液:
dhf,sc1,sc2,dio3,h2so4,ipa,dsp,st250,ekc等
完全自主国产化设备,搭配芯源高速自研机械手
sc1/sc2在线及时混合dms,可使用多种浓度配比
液体流量一键设定,闭环反馈自动调节
chamber自动清洗,减少pm时间

应用领域:

● rca标准清洗
● 气相沉积前清洗
● cmp、tsv后清洗
● 刻蚀后清洗
● epi、ald前清洗
● 用于聚合物、薄膜材料的去除

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